100年第1學期-0447 半導體物理與製程導論 課程資訊

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選課分析

本課程名額為 30人,已有18人選讀,尚餘名額12人。

評分方式

評分項目 配分比例 說明
作業 20
小考 20 不定時隨堂測驗
期中,期末考 60

授課教師

蕭錫鍊

教育目標

講解半導體物理及製程的基本觀念及其相關應用,使學生具備進行相關研究的基礎。配合本系教育目標,培養學生第一、二、三和五等各項之相關核心能力. 課程內容包括: 1. 簡介 2. 半導體物理 3. p-n接面二極體 4. 半導體元件 2. 積體電路 (Integrated Circuit) 3. 矽晶圓製造 (Wafer Fabrication) 4. 清洗技術 (Cleaning Technology) 5. 氧化 (Oxidation) 6. 薄膜技術 (Thin Film Technology) 7. 真空技術 (Vacuum Technology) 8. 熱蒸鍍及濺鍍 (Evaporation and Sputtering) 9. 化學氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition) 10. 微影技術 (Photolithography) 11. 蝕刻 (Etching) 12. 雜質植入 (Diffusion and Ion Implantation)

課程資訊

參考書目

1. Physics of Semiconductor Devices, 2nd Ed , 1981 (S.M. Sze)
2. 太陽電池, 五南出版社