105年第1學期-5325 半導體物理與製程 課程資訊

評分方式

評分項目 配分比例 說明
作業 20
小考 20 不定時隨堂測驗
期中,期末考 60

選課分析

本課程名額為 50人,已有14 人選讀,尚餘名額36人。


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授課教師

蕭錫鍊

教育目標

講解半導體物理及製程的基本觀念及其相關應用,使學生具備進行相關研究的基礎。 課程內容包括: 1. 半導體物理簡介 2. 積體電路 (Integrated Circuit) 3. 矽晶圓製造 (Wafer Fabrication) 4. 清洗技術 (Cleaning Technology) 5. 氧化 (Oxidation) 6. 薄膜技術 (Thin Film Technology) 7. 真空技術 (Vacuum Technology) 8. 熱蒸鍍及濺鍍 (Evaporation and Sputtering) 9. 化學氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition) 10. 微影技術 (Photolithography) 11. 蝕刻 (Etching) 12. 雜質植入 (Diffusion and Ion Implantation)

課程資訊

參考書目

1. Semiconductor Devices-physics and technology, 3 Ed. S,M, Sze
2. 太陽電池, 五南出版社

開課紀錄

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