108年第2學期-5331 濺鍍沉積技術專題 課程資訊

9/27起之上課方式

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評分方式

評分項目 配分比例 說明
出席 50
專題報告 50

選課分析

本課程名額為 70人,已有6 人選讀,尚餘名額64人。

授課教師

黃家逸

教育目標

1. 培育學生半導體製程能力 2. 了解材料濺鍍的工作原理 3. 因應日後課業或研究所需

課程資訊

參考書目

書名 : Handbook of Sputter Deposition Technology
作者 : Kiyotaka Wasa, Isaku Kanno, and Hidetoshi Kotera
出版年份 : 2012
出版商 : William Andrew