70
名額
11
已選
59
餘額
上課時間
二/12,五/9,10[BS511]
修課班級
應物系3,4,碩博 · 年級以上
課程資訊
大3,4 可選修，須經授課教師同意，人工選課
選課分析
| 平常成績 | 40 | 包括出席, 作業,問答 |
| 報告 | 40 | 專題書面及口頭報告 |
| 小考 | 20 | 隨堂小考 |
介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析1. 簡介 2. 薄膜形成的熱力學機制 3. 表面動力學 4. 真空技術 5. 蒸鍍 6. 濺鍍 7. 化學氣相沉積 8. 材料分析技術
1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)
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薄膜製程技術（一） 歷史開課紀錄