107年第1學期-5330 薄膜物理專題（一） 課程資訊
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 平常成績 | 40 | 包括出席, 作業,問答 |
| 報告 | 40 | 專題書面及口頭報告 |
| 小考 | 20 | 隨堂小考 |
選課分析
本課程名額為 70人，已有9 人選讀，尚餘名額61人。
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教育目標
介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析1. 簡介
2. 薄膜形成的熱力學機制
3. 表面動力學
4. 真空技術
5. 蒸鍍
6. 濺鍍
7. 化學氣相沉積
8. 材料分析技術
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：3-0
上課時間：四/9,五/9,10[BS511]
修課班級：應物系3,4,碩博
修課年級：年級以上
選課備註：大34可選修；須經授課教師同意，人工選課
教師與教學助理
授課教師：蕭錫鍊
大班TA或教學助理：尚無資料
Office Hour五/2,3,4[BS502]
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)
開課紀錄
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