109年第2學期-5328 薄膜物理專題（二） 課程資訊

評分方式

評分項目	配分比例	說明
平常成績	40	包括出席, 作業,問答
報告	40	專題書面及口頭報告
小考	20	隨堂小考

教育目標

介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析 1. 簡介 2. 薄膜形成的熱力學機制 3. 表面動力學 4. 真空技術 5. 蒸鍍 6. 濺鍍 7. 化學氣相沉積 8. 材料分析技術 9. SEM 10. TEM 11. XRD 12. Raman

基本資料

選修課，學分數：0-3
上課時間：五/10,11,12[BS508A]
修課班級：應物系3,4,碩1,2
修課年級：年級以上
選課備註：大3,4可選[III類選修，限論文專題(一)下期修習及格或同步修習者]，須經授課教師同意，人工選課

參考書目

1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)