109年第2學期-5328 薄膜物理專題（二） 課程資訊
課程分享
選課分析
本課程名額為 70人，已有3人選讀，尚餘名額67人。
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 平常成績 | 40 | 包括出席, 作業,問答 |
| 報告 | 40 | 專題書面及口頭報告 |
| 小考 | 20 | 隨堂小考 |
教育目標
介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析
1. 簡介
2. 薄膜形成的熱力學機制
3. 表面動力學
4. 真空技術
5. 蒸鍍
6. 濺鍍
7. 化學氣相沉積
8. 材料分析技術
9. SEM
10. TEM
11. XRD
12. Raman
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：0-3
上課時間：五/10,11,12[BS508A]
修課班級：應物系3,4,碩1,2
選課備註：大3,4可選[III類選修，限論文專題(一)下期修習及格或同步修習者]，須經授課教師同意，人工選課
教師與教學助理
授課教師：蕭錫鍊
大班TA或教學助理：尚無資料
Office Hour五/6,7,8[BS502]
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)