109年第2學期-5328 薄膜物理專題(二) 課程資訊

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選課分析

本課程名額為 70人,已有3人選讀,尚餘名額67人。

評分方式

評分項目 配分比例 說明
平常成績 40 包括出席, 作業,問答
報告 40 專題書面及口頭報告
小考 20 隨堂小考

授課教師

蕭錫鍊

教育目標

介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析 1. 簡介 2. 薄膜形成的熱力學機制 3. 表面動力學 4. 真空技術 5. 蒸鍍 6. 濺鍍 7. 化學氣相沉積 8. 材料分析技術 9. SEM 10. TEM 11. XRD 12. Raman

課程資訊

參考書目

1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)