109年第2學期-5328 薄膜物理專題（二） 課程資訊
iLearn 公告清單
讀取中....
Teams 連結清單
讀取中....
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 平常成績 | 40 | 包括出席, 作業,問答 |
| 報告 | 40 | 專題書面及口頭報告 |
| 小考 | 20 | 隨堂小考 |
選課分析
本課程名額為 70人，已有3 人選讀，尚餘名額67人。
教育目標
介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析
1. 簡介
2. 薄膜形成的熱力學機制
3. 表面動力學
4. 真空技術
5. 蒸鍍
6. 濺鍍
7. 化學氣相沉積
8. 材料分析技術
9. SEM
10. TEM
11. XRD
12. Raman
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：0-3
上課時間：五/10,11,12[BS508A]
修課班級：應物系3,4,碩1,2
選課備註：大3,4可選[III類選修，限論文專題(一)下期修習及格或同步修習者]，須經授課教師同意，人工選課
教師與教學助理
授課教師：蕭錫鍊
大班TA或教學助理：尚無資料
Office Hour五/6,7,8[BS502]
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)