110年第1學期-5329 晶體結構與Ｘ光繞射 課程資訊
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 出席率 | 20 | |
| 期中考 | 40 | |
| 期末考 | 40 |
選課分析
本課程名額為 25人，已有26 人選讀，尚餘名額-1人。
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教育目標
培養學生核心能力
1.理解與運用物理、數學知識
2.數值計算與數據分析
3.陳述、分析與解決問題
5.產業相關知識與技能
6.資料蒐集、彙整及吸收科技新知
課程概述
※介紹晶體結構及X光繞射原理，培養學生運用物理知識了解實驗儀器原理、操作及分析能力。
※培養學生核心能力：
1.理解與運用物理、數學知識
2.數值計算與數據分析
3.陳述、分析與解決問題
4.產業相關知識與技能
5.資料蒐集、彙整及吸收科技新知
※內容主題為：
1.晶體結構
2.X光源
3.X光繞射原理
4.X光繞射裝置
5.X光繞射數據分析
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：3-0
上課時間：二/5,三/3,4[ST132]
修課班級：應物系3,4碩博1,2
修課年級：年級以上
選課備註：大3,4可選[II類選修]
教師與教學助理
授課教師：楊安邦
大班TA或教學助理：尚無資料
Office Hour三/09：00-10：100 系辦
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
Elements of X-ray Diffraction, 3rd ed.,
B.D.Cullity & S.R.Stock. 偉明圖書代理
開課紀錄
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