113年第1學期-5325 半導體物理與製程 課程資訊
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 作業 | 20 | |
| 小考 | 20 | 不定時隨堂測驗 |
| 期中,期末考 | 60 |
選課分析
本課程名額為 25人，已有23 人選讀，尚餘名額2人。
登入後可進行最愛課程追蹤 [按此登入]。
授課教師
蕭錫鍊教育目標
講解半導體物理及製程的基本觀念及其相關應用，使學生具備進行相關研究的基礎。
課程內容包括：
1. 半導體物理簡介
2. 積體電路 (Integrated Circuit)
3. 矽晶圓製造 (Wafer Fabrication)
4. 清洗技術 (Cleaning Technology)
5. 氧化 (Oxidation)
6. 薄膜技術 (Thin Film Technology)
7. 真空技術 (Vacuum Technology)
8. 熱蒸鍍及濺鍍 (Evaporation and Sputtering)
9. 化學氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition)
10. 微影技術 (Photolithography)
11. 蝕刻 (Etching)
12. 雜質植入 (Diffusion and Ion Implantation)
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：3-0
上課時間：五/7,8,9[BS508A]
修課班級：應物系3,4,碩博1,2
修課年級：1年級以上
選課備註：大3,4可選[I類選修/半導體與材料領域]
教師與教學助理
授課教師：蕭錫鍊
大班TA或教學助理：尚無資料
Office Hour二/5,6 [BS502]
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
1. 講義
2. Semiconductor Devices-physics and technology, S.M. Sze
3. 太陽電池, 五南出版社
開課紀錄
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