114年第2學期-1111 薄膜工程 課程資訊

評分方式

評分項目	配分比例	說明
出席率	20
作業	30
期中考	25
期末考	25

教育目標

本課程的內容規畫將由建立製作薄膜的真空系統基礎概念開始，進而理解薄膜製作的物理及化學各種製程的背景知識，學習各種薄膜的檢測與分析技術，最後建立博末工程在半導體、光學及光電等領域應用的知識。 本課程教授目標旨在為學生奠定薄膜工程的扎實基礎。我們將從真空系統與薄膜成長原理開始，深入探討物理氣相沉積(PVD)與化學氣相沉積(CVD)等核心製程技術。課程也涵蓋薄膜結構、物性與電性的檢測與分析方法，並探討導體、介電、導電、光學薄膜在電子、光電產業的應用。我期望學生能透過本課程，具備獨立設計與製備薄膜，並解決相關工程問題的能力。

課程概述

本課程旨在為學生建立電機電子領域的所需薄膜工程的製作與應用知識，本課程首先簡介真空系統原理與技術，接著介紹薄膜製作的物理氣相沉積(PVD)法與化學氣相沉積(CVD)法，含括其基礎原理、製作參數及製程設備之實務技術、薄膜之結構、物性及電性的檢測與分析方法，最後再介紹薄膜相關主題的半導體薄膜、光學薄膜、導電薄膜、介電薄膜。

基本資料

選修課，學分數：0-3
上課時間：一/2,3,4
修課班級：電機系3,4
修課年級：3年級以上
選課備註：

參考書目

1.國家實驗研究院，真空技術與應用，國家儀器科技研究中心。
2.李景光，真空技術基礎, 4th EDITION, McGraw-Hill.
3.金原粲，薄膜工程學，全華圖書。