114年第2學期-1117 積體電路製程整合 課程資訊
評分方式
| 評分項目 | 配分比例 | 說明 |
|---|---|---|
| 出席 | 20 | |
| 作業 | 10 | |
| 期中考 | 25 | |
| 期末考 | 25 | |
| 彈性學習 | 20 |
選課分析
本課程名額為 70人，已有0 人選讀，尚餘名額70人。
本課程可網路登記，目前已登記人數為 13 人，選上機率為99.9%
登入後可進行最愛課程追蹤 [按此登入]。
授課教師
田青禾教育目標
本課程旨在使學生理解 2010 年後主流與先進半導體製程技術之核心概念與應用。內容涵蓋基礎半導體知識、主要模組製程，以及二維平面式與三維鰭式電晶體之製程整合。課程亦介紹受應力矽通道、高介電閘極氧化層、金屬閘極、先進源汲極工程等關鍵技術，並說明 SEM、TEM、XPS、拉曼光譜等材料分析手法與其應用。最後，課程將引導學生認識未來技術方向，包括 GAAFET、CFET、垂直通道元件與3D IC等，以建立學生對半導體製程演進的整體理解。
課程概述
本課程為奈米電子與能源技術組規劃之基礎積體電路製程專業課程，使學生了解奈米積體電路製造技術的基本知識，並培養其了解半導體產業之實務觀念。希望同學修完這門課程，可以在研究及實務上均有幫助，未來不管是繼續升學及工作都可以具備奈米積體電路製程的知識。
課程資訊
基本資料
選修課，學分數：0-3
上課時間：三/2,3,4
修課班級：電機系3,4
修課年級：3年級以上
選課備註：
教師與教學助理
授課教師：田青禾
大班TA或教學助理：尚無資料
Office HourHT221-2
Wed. 14:10~16:10 PM
授課大綱
授課大綱：開啟授課大綱(授課計畫表)
(開在新視窗)
參考書目
半導體製程與整合，吳永俊、孫崇哲、顏孝丞，滄海圖書，2023年
開課紀錄
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