114年第2學期-1118 半導體材料光譜量測技術 課程資訊

評分方式

評分項目 配分比例 說明
出席率 15
作業 20
期中考 30
期末考 30
心得報告 5 彈性學習2週評量方法

選課分析

本課程名額為 70人,已有0 人選讀,尚餘名額70人。
本課程可網路登記,目前已登記人數為 9 人,選上機率為99.9%




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授課教師

劉志毅

教育目標

1.教授光學光譜技術概論 2.教授振動與進階光譜技術 3.教授高能與磁共振光譜技術

課程概述

本課程將系統性介紹各類光譜技術的基本原理與應用,內容涵蓋光學光譜、振動光譜及高能與磁共振光譜等三大領域。首先,課程將探討紫外–可見光光譜、光致發光光譜與螢光光譜,說明其在材料與元件分析上的應用。接著,介紹紅外光吸收光譜與拉曼光譜,並深入延伸至表面增強拉曼光譜,以理解分子振動及增強機制。最後,課程將進一步說明核磁共振光譜與X射線光譜等技術,幫助學生掌握分子結構、化學環境與能帶結構的分析方法。透過此課程,學生將能建立完整的光譜技術知識基礎,並具備將其應用於電子元件、材料科學及生物醫學等領域的能力。

課程資訊

參考書目

1.T. Tripathi, Introduction to Spectroscopic Methods, Daya Publish Housing, a Division of Astral International PVt. Ltd., New Delhi, 2003
2.D. L. Pavia, G. M. Lampman, G. S. Kriz, J. R. Vyvyan, Introduction to Spectroscopy, Fifth Edition, Cengage Learning, Stamford, 2015
3.自編教材

開課紀錄

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