半導體物理與製程

115學年第1學期 選修課 3 學分
授課大綱
15
名額
0
已選
15
餘額
上課時間
五/7,8,9
授課教師
Office Hour:四/6,7,8 [BS502]
修課班級
半導體碩1 · 1年級以上
課程資訊
與物理系5325併班上課(副)
選課分析

小考, 作業 40 不定時隨堂測驗
期中,期末考 60

講解半導體物理及製程的基本觀念及其相關應用,使學生具備進行相關研究的基礎。 課程內容包括: 1. 半導體物理簡介 2. 積體電路 (Integrated Circuit) 3. 矽晶圓製造 (Wafer Fabrication) 4. 清洗技術 (Cleaning Technology) 5. 氧化 (Oxidation) 6. 薄膜技術 (Thin Film Technology) 7. 真空技術 (Vacuum Technology) 8. 熱蒸鍍及濺鍍 (Evaporation and Sputtering) 9. 化學氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition) 10. 微影技術 (Photolithography) 11. 蝕刻 (Etching) 12. 雜質植入 (Diffusion and Ion Implantation)

1. 講義
2. Semiconductor Devices-physics and technology, S.M. Sze
3. IIntroduction to semiconductor manufacturing technology 3/E, Hong Xiao,
4. 太陽電池, 五南出版社

查詢過去本課程開課紀錄: 半導體物理與製程 歷史開課紀錄